Elektronen-Vielstrahl-Lithographie
Projektleitung und Mitarbeiter
Herrmann,K.-H. (Prof. Dr. rer. nat.), Kleindiek, S. (Dipl. Phys.), Lenz,
F. (Prof. emer. Dr. rer. nat.), Schaefer, H. (Dr. rer. nat.),
Schaeffer, P. (Dr. rer. nat.), WU Wei.
Forschungsbericht :
1990-1992
Tel./ Fax.:
Projektbeschreibung
Elektronenstrahlen erlauben feinste Strukturierungen fuer die Mikroelektronik,
sie erfordern allerdings hohe Fertigungszeiten, wenn Einzelsonden verwendet
werden. Eine "Kammsonde" aus 1024 unabhaengig voneinander steuerbaren
Einzelstrahlen sollte eine deutliche Erhoehung der
Fertigungsgeschwindigkeit bei der rechnergesteuerten Strukturierung in
Nanometerdimensionen erlauben. Die schwierigen elektronenoptischen und
technologischen Probleme dieses Konzepts wurden im Rahmen eines
Verbundprojekts groesstenteils geloest. Ein Kathoden-Kondensor-System
zur Erzeugung eines bandfoermigen Elektronenstrahls wurde in Betrieb
genommen und optimiert. Eine weitere Verkuerzung des Strahlenganges
zur Verringerung der Coulomb-Wechselwirkung der Elektronen wurde
vorbereitet.
Mittelgeber
Drittmittelfinanzierung: Siemens AG; BMFT
Publikationen
Herrmann, K.-H., Kleindiek, S., Schaefer, H., Schaeffer, P.: Advances in the
electron optical design of a multi E-beam comb probe printer. -
Microelectr. Engin. 11, 355-358 (1990).
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- Stand: 15.09.96
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